resists

Il fait partie de FotoRio resists.
It is part of FotoRio Resists.
Résines photosensibles (résists), comme suit, et "substrats" revêtus des résines photosensibles suivantes :
This appendix sets out amendments to other IFRSs that are a consequence of the Board issuing IFRS 13.
Résines photosensibles (résists), comme suit, et "substrats" revêtus de résine photosensible sous contrôle :
The main goal of this test is to identify construction errors but not to assess the design in principle.
toutes résines photosensibles (résists) optimisées pour des technologies de formation d'images de surface, notamment résines photosensibles à "silylation".
The results shall comply with the curves throughout the speed range for the vehicle, within a range of:
toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet des rayons X, ayant une sensibilité de 2,5 mJ/mm2 ou meilleure ;
Amended paragraphs are shown with new text underlined and deleted text struck through.
résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 350 nm ;
The following new section 4 is inserted:
résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 245 nm ;
An entity shall apply the amendments for annual periods beginning on or after 1 January 2013.
résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 350 nm ;
The installed overhead contact line can be accepted if the measurement results comply with the requirements of table 4.2.16.
toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet des rayons X, ayant une sensibilité de 2,5 mJ/mm2 ou meilleure ;
The documents referred to in this Article shall be presented for the purposes of control and inspection at the request of the officials.
toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet de faisceaux électroniques ou ioniques, ayant une sensibilité de 0,01 μcoulomb/mm2 ou meilleure ;
When an approved interoperability constituent pantograph is to be installed on new rolling stock, testing shall be limited to the mean contact force requirements.
résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 245 nm ;
The documents referred to in paragraphs 2 and 3 shall be certified by the competent authority of the flag Member State.
toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet de faisceaux électroniques ou ioniques, ayant une sensibilité de 0,01 μcoulomb/mm2 ou meilleure ;
Any modification of the characteristics contained in the documents referred to in paragraphs 1 to 3, shall be certified by a competent authority of the flag Member State.
résines photosensibles (résists) positives adaptées (optimisées) pour l’emploi à des longueurs d’onde inférieures à 245 nm ; mais égales ou supérieures à 15 nm ;
P3 or P4 (BL3, BL4, L3, L4) containment levels are as specified in the WHO Laboratory Biosafety manual (3rd edition Geneva 2004).
Résines photosensibles (résists), comme suit, et "substrats" revêtus des résines photosensibles :
Resist materials as follows and "substrates" coated with the following resists:
Résines photosensibles (résists), comme suit, et "substrats" revêtus des résines photosensibles suivantes :
Resist materials as follows and "substrates" coated with the following resists:
a. résines photosensibles (résists) pour lithographie des semi-conducteurs :
Complete biological containment facilities at P3, P4 containment level;
toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées sous l'effet des rayons X, ayant une sensibilité de 2,5 mJ/mm2 ou meilleure ;
All resists designed for use with X-rays, with a sensitivity of 2,5 mJ/mm2 or better;
résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 350 nm ;
Positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 350 nm;
résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 245 nm ;
Positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 245 nm;
toutes résines photosensibles (résists) optimisées pour des technologies de formation d'images de surface, notamment résines photosensibles à "silylation".
For calculation of the emissions in the raw exhaust, it is necessary to know the exhaust gas flow.
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